| 用紫外-可见光谱仪研究玻璃基掺氮二氧化钛薄膜的沉积速率和光学带隙 |
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| 引用本文： | 赵青南,张君,李春领,何鑫,赵修建.用紫外-可见光谱仪研究玻璃基掺氮二氧化钛薄膜的沉积速率和光学带隙[J].分析仪器,2003(4):20-22. |
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| 作者姓名： | 赵青南 张君 李春领 何鑫 赵修建 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金资助项目 (2 0 0 1abb0 77) |
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| 摘 要： | 用紫外-可见光谱仪研究了不同溅射功率下磁控溅射法在玻璃基上沉积掺氮二氧化钛膜的沉积速率和光学带隙。结果表明，随着溅射功率的增加，薄膜的沉积速率增加，吸收边波长红移，薄膜的光学带隙宽度减小。热处理温度对不掺氮二氧化钛薄膜的吸收边和光学带隙的影响较小。
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| 关 键 词： | 紫外-可见光谱 磁控溅射 二氧化钛薄膜 沉积速率 光学带隙 玻璃基 掺氮 |
| 修稿时间： | 2002年12月27 |
Research on deposition rate and optical band gap of N-doped TiO2 film on glass matrix by UV-Vis spectroscopy |
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