首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

离子束增强沉积碳膜及其在抑制电子发射中的应用
引用本文:柳襄怀,朱宏,任琮欣,郑志宏,徐静芳,陈树德. 离子束增强沉积碳膜及其在抑制电子发射中的应用[J]. 核技术, 2004, 27(5): 334-343
作者姓名:柳襄怀  朱宏  任琮欣  郑志宏  徐静芳  陈树德
作者单位:1.中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,华东师范大学信息学院电子工程系,华东师范大学理工学院物理系,上海,200050;2.华东师范大学信息学院电子工程系上海,200062;3.华东师范大学理工学院物理系上海200062,上海200050,上海200050,上海200050,上海200062,上海,200062
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973 计划) 资助项目(G2000067207-2)
摘    要:栅电子发射是影响行波管工作性能和制约其使用寿命的主要因素。国内研制的导弹雷达制导用行波管因存在严重的栅电子发射现象,寿命只有70h,不能付诸军事应用。采用离子束增强沉积的方法在栅网表面沉积一层碳膜后,可有效地抑制栅电子发射,使行波管寿命超过了1000h,在军事和航天领域获得了成功应用。报导了低能离子束增强沉积类金刚石薄膜和高能离子束增强沉积类石墨碳膜的制备技术、结构性能及其在抑制栅电子发射中的应用和机理研究的结果。

关 键 词:离子束增强沉积  碳膜  抑制电子发射

Carbon films prepared by ion beam enhanced deposition and their applications for suppression of electron emission
LIU Xianghuai,, ZHU Hong REN Congxin ZHENG Zhihong XU Jingfang CHEN Shude. Carbon films prepared by ion beam enhanced deposition and their applications for suppression of electron emission[J]. Nuclear Techniques, 2004, 27(5): 334-343
Authors:LIU Xianghuai     ZHU Hong REN Congxin ZHENG Zhihong XU Jingfang CHEN Shude
Affiliation:1.Ion Beam Laboratory, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, the Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050) 2
Abstract:Electron emission from grid is a serious problem for it limits the service time and destroys the working condition of the traveling wave tubes. After coating carbon films on the surface of the control grid by ion beam en- hanced deposition (IBED) in our laboratory, the electron emission from control grid was suppressed. One of the trav- eling wave tubes with control grid treated with coating carbon film already had a service time more than 1000 h. This technology has already been used in defense and aviation field successfully. The preparation and properties of two kinds of carbon films-diamond like carbon and graphite like carbon, their applications and mechanism for suppression of electron emission are presented in this paper.
Keywords:Ion beam enhanced deposition   Carbon films   Suppression of electron emission
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《核技术》浏览原始摘要信息
点击此处可从《核技术》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号