基于单一相位模板的带状光纤上多波长阵列光纤光栅刻写工艺研究 |
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引用本文: | 刘燕燕,姜凤贤,侯佳鹏,周宁,武海生.基于单一相位模板的带状光纤上多波长阵列光纤光栅刻写工艺研究[J].光电子技术,2015,35(1). |
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作者姓名: | 刘燕燕 姜凤贤 侯佳鹏 周宁 武海生 |
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作者单位: | 1. 燕山大学信息科学与工程学院,河北秦皇岛,066004;河北省特种光纤与光纤传感重点实验室,河北秦皇岛,066004 2. 燕山大学信息科学与工程学院,河北秦皇岛,066004 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目,秦皇岛市市级科技计划项目 |
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摘 要: | 设计了一种带状光纤上阵列光纤光栅刻写系统,仅利用一块相位掩模板,即实现8芯带纤上阵列光纤布拉格光栅的刻写.使用自行设计的带纤夹具夹持带纤,电控位移平台对带纤整体施加拉伸力,采用相位掩模工艺对光纤逐根曝光,并同时以扫描写入的方法进行汉明切趾.刻栅过程由电脑编程控制,中心波长、波长间隔以及切趾方式可以灵活调整.测试结果表明,刻写完成的阵列光纤布拉格光栅3 dB带宽为0.2 nm、波长间隔为0.5 nm、波长偏差小于±50 pm、反射率达到80%~85%.
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关 键 词: | 带状光纤 光纤光栅 刻写 工艺 |
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