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SO1-Gel法硅基PZT铁电薄膜研究
引用本文:张林涛,任天令,张武全,刘理天,李志坚. SO1-Gel法硅基PZT铁电薄膜研究[J]. 功能材料, 2001, 32(3): 252-253
作者姓名:张林涛  任天令  张武全  刘理天  李志坚
作者单位:清华大学,微电子所,;清华大学,微电子所,;清华大学,微电子所,;清华大学,微电子所,;清华大学,微电子所,
基金项目:国家自然科学基金资助项目(69806007)
摘    要:介绍了以硝酸锆、醋本以铅和钛酸四丁酯为原料用溶胶-凝胶(sol-gel)方法在硅衬底上制备Pb(Zr0.53Ti0.47)O3(PZT)铁电膜的工艺流程。对铁电薄膜的表面形貌、晶化程度、界面状态等性质进行了分析,结果表明硅基PZT薄膜形成了良好的钙伏矿结构,并在此基础上实现了制备PZT铁电薄膜的低温改进工艺。

关 键 词:sol-gel法  PZT  铁电薄膜
文章编号:1001-9731(2001)03-0252-02
修稿时间:2000-02-14

Study of silicon-based ferroelectric PZT thin films fabricated by sol-gel method
ZHANG Lin-tao,REN Tian-ling,ZHANG Wu-quan,LIU Li-tian,LI Zhi-jian. Study of silicon-based ferroelectric PZT thin films fabricated by sol-gel method[J]. Journal of Functional Materials, 2001, 32(3): 252-253
Authors:ZHANG Lin-tao  REN Tian-ling  ZHANG Wu-quan  LIU Li-tian  LI Zhi-jian
Abstract:
Keywords:sol-gel method  PZT  ferroelectric thin film
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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