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| 多弧离子镀膜机阴极弧源的改进及其工艺的实验研究 | |
| 引用本文： | 金石,黄晓兰.多弧离子镀膜机阴极弧源的改进及其工艺的实验研究[J].真空,1991(1):9-15. |
| 作者姓名： | 金石 黄晓兰 |
| 作者单位： | 机械电子工业部沈阳真空技术研究所，机械电子工业部沈阳真空技术研究所，机械电子工业部沈阳真空技术研究所 沈阳市 110042，沈阳市 110042，沈阳市 110042 |
| 摘 要： | 本文叙述了对多弧离子镀膜机阴极弧源所做的实验研究，提出了如何降低靶极工作电流、提高靶材利用率、减小蒸发粒子的颗粒度以及提高成膜质量的方法。详细介绍了在我所研制的ＨＬＺ－７５０型八个弧源的多弧离子镀膜机上所做的 ＴｉＮ超硬涂层及装饰涂层的工艺研究及实测结果。 |
| 关 键 词： | 阴极 弧源 膜机 靶 多弧离子 |
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