| 高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究 |
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| 引用本文： | 曾国良,李铁生,许文俭,张素华,王筠,赵娜,吴养洁.高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究[J].功能材料,2007,38(A01):281-284. |
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| 作者姓名： | 曾国良 李铁生 许文俭 张素华 王筠 赵娜 吴养洁 |
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| 作者单位： | [1]郑州大学化学系河南省化学生物与有机化学重点实验室郑州市先进纳米信息材料重点实验室,河南郑州450052 [2]郑州大学材料科学与工程学院,河南郑州450052 |
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| 基金项目： | 基金项目：河南省杰出人才创新基金资助项目（0621001100）;河南省杰出青年基金资助项目（074100510015）;河南省自然科学基金资助项目（0611020100,2007150042） |
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| 摘 要： | 合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。
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| 关 键 词： | langmuir-blodgett（LB）膜 光刻 聚合物 刻蚀 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-0281-04 |
| 修稿时间： | 2007-05-06 |
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