| 图形反转工艺用于金属层剥离的研究 |
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| 引用本文： | 陈德鹅,吴志明,李伟,王军,袁凯,蒋亚东.图形反转工艺用于金属层剥离的研究[J].半导体技术,2009,34(6). |
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| 作者姓名： | 陈德鹅 吴志明 李伟 王军 袁凯 蒋亚东 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054 |
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| 基金项目： | 教育部新世纪优秀人才支持计划 |
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| 摘 要： | 研究了AZ-5214胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术.用扫描电镜和台阶仪测试制作出的光刻胶断面呈倒台面,倾角约为60°,胶厚1.4μm.得到了优化的制作倒台面结构的光刻胶图形的工艺参数:匀胶转速4 000 r/min,前烘温度100 ℃,时间60 s,曝光时间0.3 s,反转烘温度110℃,时间90 s,泛曝光时间2 s,显影时间50 s.用金相显微镜测试了在优化工艺参数条件下制作的光刻胶图形的分辨率,同时对图形反转机理进行了讨论.
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| 关 键 词： | 光刻 AZ-5214 剥离工艺 图形反转 断面模拟 |
Image Reverse Technique for Research of Metal Lift-Off |
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| Chen De'e,Wu Zhiming,Li Wei,Wang Jun,Yuan Kai,Jiang Yadong.Image Reverse Technique for Research of Metal Lift-Off[J].Semiconductor Technology,2009,34(6). |
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| Authors: | Chen De'e Wu Zhiming Li Wei Wang Jun Yuan Kai Jiang Yadong |
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| Affiliation: | State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices;School of Optoelectronic Information;University of Electronic Science and Technology of China;Chengdu 610054;China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AZ-5214 |
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