|
|||||
|
|
| ZrO2固体电解质及氧探头炉内气氛控制的基础 | |
| 引用本文： | 徐跃明.ZrO2固体电解质及氧探头炉内气氛控制的基础[J].金属热处理,1996(8):32-34. |
| 作者姓名： | 徐跃明 |
| 作者单位： | 机械部北京机电研究所!北京100083 |
| 摘 要： | 在热处理炉内气氛控制方面，氧探头的应用促进了碳势控制技术的进步和热处理质量的提高。研制可靠性高、寿命长的氧挠头仍是当今热处理行业的关键课题之一。随着固体电解质陶瓷制造技术的提高，氧探头可应用的温度范围被进一步拓宽。近几年，氧探头在气体渗氮时氮势控制方面的应用研究在国外得到发展，并有可能成为该领域的技术热点。IZrO。固体电解质稳定的ZrO。陶瓷在一定的温度和气氛条件下具有离子导电特性，被称为固体电解质。氧探头就是基于固体电解质的上述特性而设计的，如图1所示。其实质如同一个氧浓差电池，由Zr（）2固体电解… |
| 关 键 词： | 热处理炉 气氛控制 氯化锆 固体电解质 氧探头 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |