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激光预处理技术及其应用
引用本文:赵元安,胡国行,刘晓凤,李大伟,朱美萍,易葵,邵建达.激光预处理技术及其应用[J].光学精密工程,2016(12):2938-2947.
作者姓名:赵元安  胡国行  刘晓凤  李大伟  朱美萍  易葵  邵建达
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室,上海,210800
基金项目:国家自然科学基金资助项目(61308021
摘    要:回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负载能力的提高,建立了大口径光学元件激光预处理平台,实现了基频介质膜元件的激光预处理工程化作业。比较了纳秒和亚纳秒脉冲宽度激光对DKDP晶体损伤性能的影响。基于亚纳秒激光预处理后,纳秒激光辐照至14.4J/cm2(5ns)尚未出现"本征"损伤的实验结果,提出了用于DKDP晶体的亚纳秒激光预处理方案,并指出亚纳秒激光预处理技术将成为高功率激光三倍频晶体抗激光损伤性能达标的关键技术。

关 键 词:激光预处理  激光与物质相互作用  高功率激光  激光损伤阈值  介质膜  磷酸二氢钾(KDP)晶体  高掺氘磷酸二氢钾(DKDP)晶体

Laser conditioning technology and its applications
Abstract:
Keywords:laser conditioning  high power laser system  laser induced damage threshold  dielectric coating  potassium dihydrogen phosphate(KDP) crystal  doped deuterium KDP(DKDP) crystal
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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