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红外材料硅透镜加工工艺研究
作者姓名:徐岩  李善武  杨新华  陈洪许
作者单位:中国空空导弹研究院,河南,洛阳,471009;中国空空导弹研究院,河南,洛阳,471009;中国空空导弹研究院,河南,洛阳,471009;中国空空导弹研究院,河南,洛阳,471009
摘    要:随着红外空空导弹的发展,红外光学材料单晶硅得到了广泛的应用.介绍了单晶硅材料加工透镜的工艺过程,着重研究了硅透镜的抛光技术,通过使用不同的抛光粉及抛光模层材料,找到了加工硅透镜的最佳工艺匹配条件.实验结果表明:使用SiO2胶体配制的抛光液(PH10~11)及用抛光布制成的抛光模,采用机械-化学方法抛光出的零件表面疵病达到Ⅲ级(GB 1185-74),并能够通过修改抛光模控制光圈及光圈误差,加工出的硅透镜满足导弹光学系统的要求.

关 键 词:单晶硅  表面疵病  精磨  机械-化学抛光
文章编号:1007-2276(2006)03-0359-03
收稿时间:2005-08-06
修稿时间:2005-08-062005-09-15
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