| 硫化退火温度对金属三靶顺序溅射CZTS薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘仪柯,唐雅琴,张坤,蒋良兴,刘芳洋,赖延清.硫化退火温度对金属三靶顺序溅射CZTS薄膜性能的影响[J].有色金属(冶炼部分),2018(1):69-72. |
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| 作者姓名： | 刘仪柯 唐雅琴 张坤 蒋良兴 刘芳洋 赖延清 |
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| 作者单位： | 贵州理工学院材料与冶金工程学院,贵州理工学院材料与冶金工程学院,中南大学冶金与环境学院,中南大学冶金与环境学院,中南大学冶金与环境学院,中南大学冶金与环境学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（51674298，51272292，51604088）；贵州省科技合作计划项目（黔科合LH字[2015]7091）；贵州省科技计划项目（黔科合LH字[2017]1064） |
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| 摘 要： | 通过XRD及Raman物相分析、SEM形貌观察和EDS成分分析等方法研究了硫化退火温度对金属三靶顺序溅射铜锌锡硫(CZTS)薄膜性能的影响。结果表明,在一定温度范围内(500~580℃),随着温度的升高薄膜的结晶性能有变好的趋势,形貌也得到了改善。当温度达到600℃时,CZTS薄膜会发生分解反应,该分解反应不但导致薄膜结晶性能及形貌恶化,也造成了锡元素的损失。580℃条件下获得的薄膜各项性能俱佳,是最适合本实验体系的退火温度。
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| 关 键 词： | 硫化退火 退火温度 铜锌锡硫薄膜 结晶性能 |
| 收稿时间： | 2017/8/17 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2017/8/26 0:00:00 |
Effect of Annealing Temperature on Performance of CZTS Thin Films Prepared via Metal Targets Sequential Sputtering Followed by Sulfuration Technology |
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| liu yike,tang yaqin,zhang kun,jiang liangxing,liu fangyang and lai yanqing.Effect of Annealing Temperature on Performance of CZTS Thin Films Prepared via Metal Targets Sequential Sputtering Followed by Sulfuration Technology[J].Nonferrous Metals(Extractive Metallurgy),2018(1):69-72. |
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| Authors: | liu yike tang yaqin zhang kun jiang liangxing liu fangyang and lai yanqing |
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| Affiliation: | Guizhou Institute of Technology,,,,, |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | sulfide annealing annealing temperature CZTS film crystallization property |
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