高功率880nm激光芯片可靠性验证分析 |
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引用本文: | 张欢欢,余良清,阮仕环,罗崇禧,祝攀飞.高功率880nm激光芯片可靠性验证分析[J].中国仪器仪表,2024(1):70-72. |
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作者姓名: | 张欢欢 余良清 阮仕环 罗崇禧 祝攀飞 |
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作者单位: | 深圳华通威国际检验有限公司 |
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摘 要: | 高功率880nm激光芯片的结构设计,均采用大光学腔和小于0.62cm-1的低内损,并通过MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)工艺实现这种结构的外延。通过一系列标准和特殊制造工艺,实现了200μm发射器宽度和4mm腔长激光芯片。在P面朝下贴装在AlN陶瓷基板上后,测试880nm激光器的阈值电流为1.1A,斜率效率为1.11W/A,中心工作波长为11A时为880.8nm,光谱半高宽(FWHM)为2.2nm。在16A的连续电流和20°C的冷却水温下进行加速老化试验,老化时间达到2000h时无故障。根据ISO/FDIS 17526的Arrhenius模型,MTTF(Mean time to failure)计算为20万小时。
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关 键 词: | 880nm 高功率 激光芯片 MTTF |
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