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高功率880nm激光芯片可靠性验证分析
引用本文:张欢欢,余良清,阮仕环,罗崇禧,祝攀飞.高功率880nm激光芯片可靠性验证分析[J].中国仪器仪表,2024(1):70-72.
作者姓名:张欢欢  余良清  阮仕环  罗崇禧  祝攀飞
作者单位:深圳华通威国际检验有限公司
摘    要:高功率880nm激光芯片的结构设计,均采用大光学腔和小于0.62cm-1的低内损,并通过MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)工艺实现这种结构的外延。通过一系列标准和特殊制造工艺,实现了200μm发射器宽度和4mm腔长激光芯片。在P面朝下贴装在AlN陶瓷基板上后,测试880nm激光器的阈值电流为1.1A,斜率效率为1.11W/A,中心工作波长为11A时为880.8nm,光谱半高宽(FWHM)为2.2nm。在16A的连续电流和20°C的冷却水温下进行加速老化试验,老化时间达到2000h时无故障。根据ISO/FDIS 17526的Arrhenius模型,MTTF(Mean time to failure)计算为20万小时。

关 键 词:880nm  高功率  激光芯片  MTTF
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