电镀铜—镍合金时的阴极行为研究 |
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引用本文: | 黄清安,袁海涛.电镀铜—镍合金时的阴极行为研究[J].材料保护,1993,26(11):4-6. |
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作者姓名: | 黄清安 袁海涛 |
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作者单位: | 武汉大学化学系电化学研究室,武汉大学化学系电化学研究室,武汉大学化学系电化学研究室,武汉大学化学系电化学研究室 430072,430072 92届本科毕业生,430072,430072 |
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摘 要: | 用线性电势扫描法研究了含有Cu^2+,Ni^2+离子+柠檬酸钠以及Cu^2+离子+柠檬酸钠,Ni^2+离子+柠檬酸的溶液中,铂电极和铜电极上的阴极行为。结果表明:(1)在-0.07V(相对S.C.E)左右有铜配离子的还原。此过程受铜配离子的扩散控制。在-0.30~-0.60V之间是铜-镍合金形成区,在-0.70~0.90V之间是镍配离子的还原区。(2)向含有Cu^2+离子,Ni^2+离子的溶液中加
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关 键 词: | 铜镍合金 阴极极化 电镀 |
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