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Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究
引用本文:付志强,王成彪,岳文,彭志坚,郭文利,梁彤翔.Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究[J].太阳能学报,2011,32(12).
作者姓名:付志强  王成彪  岳文  彭志坚  郭文利  梁彤翔
作者单位:1. 中国地质大学(北京)工程技术学院,北京,100083
2. 清华大学核能与新能源技术研究院精细陶瓷北京市重点实验室,北京,100084
基金项目:教育部科学技术研究重点项目,广西科学研究与技术开发计划项目,中央高校基本科研业务费专项资金,清华大学实验室开放基金
摘    要:探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术,结果表明:增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性;随着氮气流量的增加,AlN膜的N/Al原子比增大,减小氩气流量或增大铝靶电流对制备满足理想化学计量比的AlN膜有利;AlN膜的致密性随氮气流量和铝靶电流的增大而改善,但氩气流量对AlN致密性没有明显影响;制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6%.光谱选择性较好.

关 键 词:Al-AlN  选择性吸收涂层  中频反应溅射  工艺参数

STUDY OF MEDIUM-FREQUENCY SPUTTERING OF GRADED Al-AlN SOLAR SELECTIVE ABSORBERS
Fu Zhiqiang , Wang Chengbiao , Yue Wen , Peng Zhijian , Guo Wenli , Liang Tongxiang.STUDY OF MEDIUM-FREQUENCY SPUTTERING OF GRADED Al-AlN SOLAR SELECTIVE ABSORBERS[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2011,32(12).
Authors:Fu Zhiqiang  Wang Chengbiao  Yue Wen  Peng Zhijian  Guo Wenli  Liang Tongxiang
Abstract:
Keywords:
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