| 有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究 |
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| 引用本文： | 徐芳,沈上越,谢静.有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究[J].过程工程学报,2004,4(Z1):256-260. |
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| 作者姓名： | 徐芳 沈上越 谢静 |
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| 作者单位： | 中国地质大学材化学院,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国土资源部项目(编号:121280201102) |
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| 摘 要： | 本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98 nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22 nm.
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| 关 键 词： | 蒙脱石 有机蒙脱石 正交法 层间距 模式 |
Preparation of Organophilic Montmorillonite and Models of the Organic Reagent in it |
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| XU Fang,SHEN Shang-yue,XIE Jing.Preparation of Organophilic Montmorillonite and Models of the Organic Reagent in it[J].Chinese Journal of Process Engineering,2004,4(Z1):256-260. |
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| Authors: | XU Fang SHEN Shang-yue XIE Jing |
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