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退火温度对银-二氧化硅核壳(Ag@SiO2/TiO2)薄膜结构,光学特性以及光催化性能的影响
引用本文:郝殿中,韩培高,牛明生.退火温度对银-二氧化硅核壳(Ag@SiO2/TiO2)薄膜结构,光学特性以及光催化性能的影响[J].光电子.激光,2020(3):288-292.
作者姓名:郝殿中  韩培高  牛明生
作者单位:曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165,曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165,曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165
基金项目:山东省重点研发计划(2017GSF17125)资助项目 (曲阜师范大学 激光研究所,山东省激光偏光与信息技术重点实验室,山东 曲阜 273165)
摘    要:局部表面等离子共振广泛应用于光催化和太阳能 电池等领域。采用电子束和热沉积技 术,在融石英和Si片上制备了Ag@SiO2/TiO2薄膜。在300 ℃,400 ℃,500 ℃,600 ℃ 温度下,薄膜在空气氛围下退火2h。采用拉曼光谱仪,紫外-可见分光光度 计(UV-Vis)等手段对微结构,光学性能等特性进行了表征。利用能谱仪测定了元素成分及含 量。考察了薄膜在水溶液中降解甲基橙的光催化活性。结果表明:Ag@SiO2/TiO2薄膜具有优 异的光催化性能。测试结果表明:在250℃下制备的TiO2薄膜为无定形结构;在本实验条 件下,随着退火温度的升高,薄膜呈锐钛矿结构;锐钛矿相表现出了更好的光催化性能。

关 键 词:薄膜光学    Ag@SiO2/TiO2纳米粒子    退火温度    改性光催化反应    微结构    光学  性能
收稿时间:2019/11/18 0:00:00

Effect of annealing temperature on the structural,optical properties and phot ocatalytic properties of Ag@SiO2/TiO2thin films
HAO Dian-zhong,HAN Pei-gao and NIU Ming-sheng.Effect of annealing temperature on the structural,optical properties and phot ocatalytic properties of Ag@SiO2/TiO2thin films[J].Journal of Optoelectronics·laser,2020(3):288-292.
Authors:HAO Dian-zhong  HAN Pei-gao and NIU Ming-sheng
Affiliation:Institute of Laser Research,Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Qufu Normal University,Qufu Shandong,273165Chi na,Institute of Laser Research,Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Qufu Normal University,Qufu Shandong,273165Chi na and Institute of Laser Research,Shandong Provincial Key Laboratory of Laser Polariz ation and Information Technology,Qufu Normal University,Qufu Shandong,273165Chi na
Abstract:
Keywords:
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