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激光脉冲沉积法在Si(100)上生长c轴择优取向的LiNbO3晶体薄膜及其性能
引用本文:黄靖云,叶志镇,汪雷,叶龙飞,赵炳辉.激光脉冲沉积法在Si(100)上生长c轴择优取向的LiNbO3晶体薄膜及其性能[J].半导体学报,2002,23(5):488-491.
作者姓名:黄靖云  叶志镇  汪雷  叶龙飞  赵炳辉
作者单位:浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金;90101009;
摘    要:采用激光脉冲沉积(PLD)法在Si(100)衬底上生长得到了完全c轴择优取向的LiNbO3(LN)薄膜,X射线衍射分析表明LN(006)衍射峰的半峰宽为0.35°.利用棱镜耦合器,激光可以被耦合到LN薄膜中,形成TE和TM模式的光波导.测得LN薄膜的折射率n0为2.285,薄膜的厚度为0.199μm.

关 键 词:光波导  铌酸锂薄膜  激光脉冲沉积法
文章编号:0253-4177(2002)05-0488-04
修稿时间:2001年9月8日

Growth and Characterization of c-Orient LiNbO3 Films on Si(100) by Pulse Laser Deposition
Huang Jingyun,Ye Zhizhen,Wang Lei,Ye Longfei and Zhao Binghui.Growth and Characterization of c-Orient LiNbO3 Films on Si(100) by Pulse Laser Deposition[J].Chinese Journal of Semiconductors,2002,23(5):488-491.
Authors:Huang Jingyun  Ye Zhizhen  Wang Lei  Ye Longfei and Zhao Binghui
Abstract:
Keywords:optical waveguide  LiNbO_3 film  pulse laser  deposition
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