| 直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜 |
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| 引用本文： | 付淑英.直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜[J].太阳能学报,2010,31(9). |
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| 作者姓名： | 付淑英 |
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| 作者单位： | 韩山师范学院物理与电子工程系,潮州,521041 |
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| 基金项目： | 韩山师范学院2009年教授启动项目，江西省新余市2008年自然科学基金项目，江西省教育厅2009年科技计划项目 |
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| 摘 要： | 以直流反应磁控溅射方法作为制备手段,选择Ti为靶材,以氩气作为工作气体、氮气为反应气体,在Si(111)基底上制备太阳光谱选择性吸收薄膜TiN,使之具有较好的光谱选择吸收特性。研究发现:在其它工艺参数保持不变的情况下,溅射气压在0.35～1.50Pa范围内,都能制备出(200)择优取向的立方相TiN。而当溅射气压为0.35Pa时沉积的薄膜致密、均匀,色泽金黄,膜厚为132nm,结晶性最好,电阻率最低为33.8μΩ·cm(接近块体氮化钛电阻率)。在可见-近红外光区(波长400～1000nm)的平均吸收率α=0.83,最高红外反射率R=0.90。通过对膜层结构、膜厚、吸收率及反射率的分析,制备的TiN薄膜光谱选择性吸收特性良好,具有很高的应用价值。可用于太阳集热器的吸热表面,并可直接作为光热转换建筑材料。
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| 关 键 词： | 太阳光谱选择性吸收薄膜 磁控溅射 氮化钛(TiN) 吸收率 反射率 |
THE SOLAR SPECTRALLY SELECTIVE ABSORBING THIN FILM BY DC MAGNATRON SPUTTERING |
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| Fu Shuying.THE SOLAR SPECTRALLY SELECTIVE ABSORBING THIN FILM BY DC MAGNATRON SPUTTERING[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2010,31(9). |
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| Authors: | Fu Shuying |
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