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| 脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展 | |
| 作者姓名： | 敖育红 胡少六 龙华 徐业斌 王又青 |
| 作者单位： | 华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074;华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074;华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074;华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074;华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074 |
| 摘 要： | 脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术。陈述了其原理、特点、研究方法,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧、双光束脉冲激光沉积等最新的PLD薄膜制备技术研究进展。 |
| 关 键 词： | 超快脉冲激光沉积 双光束脉冲激光沉积 脉冲激光真空弧薄膜制备 薄膜技术 |
| 文章编号： | 1001-3806(2003)05-0453-04 |
| 收稿时间： | 2003-01-20 |
| 修稿时间： | 2003-03-22 |
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