| 基片偏压与氩分压对铀表面铝镀层结构与界面特性的影响 |
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| 引用本文： | 王庆富,张鹏程,陈林,刘清和,郎定木,肖红.基片偏压与氩分压对铀表面铝镀层结构与界面特性的影响[J].真空,2009,46(1). |
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| 作者姓名： | 王庆富 张鹏程 陈林 刘清和 郎定木 肖红 |
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| 作者单位： | 1. 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907
2. 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900 |
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| 基金项目： | 表而物理与化学国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同基片偏压与不同氩分压制备铝镀层,利用扫描电镜分析了镀层的表面和界面形貌,利用俄歇电子能谱仪分析了界面元素分布,利用透射电镜分析了镀层的微观结构.结果表明:钠表面脉冲偏压所得锚镀层较直流偏压所得镀层致密,脉冲偏压在-500～-1000V范围内镀层的致密性较好.铀表面脉冲偏压铝镀层与铀基体之间界面结合紧密,且存在"伪扩散层";随着脉冲偏压的提高,"伪扩散层"增宽.铝镀层为柱状结构,降低工作氩分压,可以细化铝镀层的晶粒,提高镀层的致密性.
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| 关 键 词： | 贫铀 铝镀层 脉冲偏压 结构 界面特性 |
Effects of substrate bias and argon partial pressure on microstructure and interfacial characteristic of aluminum coating on uranium surface |
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| WANG Qing-fu,ZHANG Peng-cheng,CHEN Ling,LIU Qing-he,LANG Ding-mu,XIAO Hong.Effects of substrate bias and argon partial pressure on microstructure and interfacial characteristic of aluminum coating on uranium surface[J].Vacuum,2009,46(1). |
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| Authors: | WANG Qing-fu ZHANG Peng-cheng CHEN Ling LIU Qing-he LANG Ding-mu XIAO Hong |
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