MPCVD法制备低粒径纳米金刚石薄膜的研究 |
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引用本文: | 吕琳,汪建华,张莹.MPCVD法制备低粒径纳米金刚石薄膜的研究[J].真空与低温,2015(1):23-27. |
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作者姓名: | 吕琳 汪建华 张莹 |
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作者单位: | 武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;中国科学院等离子体物理研究所 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(11175137) |
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摘 要: | 采用微波等离子体化学气相沉积法,以Ar/H2/CH4为气源,通过改变气源流量比例和功率,探究生长低粒径纳米金刚石的最佳条件。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜分别对制备出的薄膜的晶粒尺寸和表面形貌进行了表征,并采用拉曼散射光谱仪对薄膜的质量及残余应力进行了分析。结果表明:氩氢浓度比例相对于功率和甲烷浓度等因素对金刚石粒径影响较大;随着氩氢浓度比例增大,金刚石粒径呈减小趋势;金刚石相对于石墨相的含量先减小后增大,且由拉曼G峰引起的拉应力不断增大;膜表面的团聚体尺寸逐渐减小,平整度随之提升。
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关 键 词: | 微波等离子体 化学气相沉积 纳米金刚石 粒径 |
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