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硅蒸镀法制备低密度C/C复合材料表面SiC涂层
引用本文:王兵,谭毅,施伟,李佳艳,尤启凡.硅蒸镀法制备低密度C/C复合材料表面SiC涂层[J].材料工程,2015,43(2):1-6.
作者姓名:王兵  谭毅  施伟  李佳艳  尤启凡
作者单位:大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,辽宁大连116024;大连理工大学辽宁省太阳能光伏系统重点实验室,辽宁大连116024
基金项目:国家科技支撑计划项目,三束材料改性教育部重点实验室开放课题
摘    要:采用浆料法在低密度C/C复合材料表面制备了石墨涂层,然后利用硅蒸镀法使硅蒸气与石墨涂层反应生成SiC涂层.借助X射线衍射、扫描电子显微镜等研究了蒸镀温度、蒸镀时间、石墨涂层表面粗糙度、硅蒸发源及气氛条件对涂层微观结构、相组成、致密度、平整度以及涂层厚度的影响.结果表明:随着蒸镀温度的升高,涂层的表面平整度增加,当蒸镀温度为1550℃和1650℃时,涂层表面仅存在SiC;硅块为硅蒸发源,氩气为保护气氛均可提高涂层表面平整度;降低石墨涂层的表面粗糙度,涂层的致密度和连续性增大;随着蒸镀时间的增加,SiC涂层厚度和致密度逐渐增加.

关 键 词:低密度C/C复合材料  硅蒸镀法  SiC涂层

SiC Coating on Low Density Carbon/Carbon Composites Prepared by Silicon Evaporation
WANG Bing,TAN Yi,SHI Wei,LI Jia-yan,YOU Qi-fan.SiC Coating on Low Density Carbon/Carbon Composites Prepared by Silicon Evaporation[J].Journal of Materials Engineering,2015,43(2):1-6.
Authors:WANG Bing  TAN Yi  SHI Wei  LI Jia-yan  YOU Qi-fan
Affiliation:WANG Bing;TAN Yi;SHI Wei;LI Jia-yan;YOU Qi-fan;Key Laboratory of Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams(Ministry of Education),Dalian University of Technology;Key Laboratory for Solar Energy Photovoltaic System of Liaoning Province,Dalian University of Technology;
Abstract:
Keywords:low density carbon/carbon composite  silicon evaporation  SiC coating
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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