真空电弧沉积技术中的弧源设计 |
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引用本文: | 程仲元,王珉.真空电弧沉积技术中的弧源设计[J].真空科学与技术,1999,19(2):120-127. |
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作者姓名: | 程仲元 王珉 |
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作者单位: | 南京航空航天大学机电工程学院 |
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摘 要: | 讨论了真空电弧沉积中弧源设计的有关问题,如电弧运行模式、电弧极性、点火方式、电弧的约束方式以及宏观粒子抑制方式等。分析表明,分析表明,合理选择电弧运行模式和电弧极性,以满足涂料粒子蒸发与离化的要求;选择合理的弧源结构,加强对电弧的约束与烧蚀的控制,或用过滤弧源,以抑制宏观粒子对涂层的污染,是成功设计弧源的关键。
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关 键 词: | 真空电弧 沉积 弧源设计 涂层 离子镀 VAD |
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