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流态化CVD技术制备超细Al_2O_3-SnO_2复合粒子的过程机理
引用本文:华彬 李春忠. 流态化CVD技术制备超细Al_2O_3-SnO_2复合粒子的过程机理[J]. 化工学报, 1994, 45(6): 723-728
作者姓名:华彬 李春忠
作者单位:华东理工大学技术化学物理所!上海200237,华东理工大学技术化学物理所!上海200237,华东理工大学技术化学物理所!上海200237,华东理工大学技术化学物理所!上海200237,华东理工大学技术化学物理所!上海200237
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:以SnCl_4-H_2O-N_2作为实验体系,采用流态化CVD技术制备了超细Al_2O_3-SnO_2复合粒子.利用透射电子显微镜(TEM)、X荧光光谱仪(XRF)、高分辨电子显微镜(HREM)等现代测试手段考察了SnO_2在Al_2O_3表面的分散形态及操作参数对SnO_2成膜与成核的影响.讨论了化学气相包覆过程机理.

关 键 词:化学气相淀积 流态化 氧化铝 氧化锡 超细粉

MECHANISM OF PREPARING ULTRAFINE Al_2O_3-SnO_2 COMPOSITE PARTICLES BY FLUIDIZATION CVD TECHNOLOGY
Hua Bin,Li Chunzhong,Han Jinyi,Hu Liming and Shi Qinghong. MECHANISM OF PREPARING ULTRAFINE Al_2O_3-SnO_2 COMPOSITE PARTICLES BY FLUIDIZATION CVD TECHNOLOGY[J]. Journal of Chemical Industry and Engineering(China), 1994, 45(6): 723-728
Authors:Hua Bin  Li Chunzhong  Han Jinyi  Hu Liming  Shi Qinghong
Abstract:Ultrafine Al2O3- SnO2 composite particles were prepared by fluidization chemical vapor deposition technology with SnCl4-H2O-N2 systems. By the methods of TEM, XRF, HREM ,the distribution of SnO2 over Al2O3 particle surface and the effect of operating parameters on forming films and producing particles were studied. The mechanism of chemical vapor coating was expounded
Keywords:chemical vapor deposition   ultrafine particle   fluidization
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