|
|||||
|
|
| 基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展 | |
| 作者单位： | ;1.浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室;2.清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室 |
| 摘 要： | 微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电子芯片、半导体器件等领域的科研和生产都具有非常重要的意义。目前,直写技术是一种可以不依赖掩模板和印模的掩模图案制造技术,其制作工艺较为简单,具有较高的掩模制作精度和柔性度,已成为微纳掩模制作的重要发展方向。综述了国内外各种主要的基于直写技术的微纳掩模制作技术,并归纳了其技术特点,展望了其发展趋势。 |
| 关 键 词： | 直写技术 掩模制作 微纳米技术 图形化 |
Research progress of micro-nano mask fabrication technology based on direct writing technique |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |