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| THGEM探测器化学抛光及其工作气体优化 | |
| 引用本文： | 谢文锦,赵子喻,覃潇平,刘熙文,黄雪峰,黄博,封焕波,刘倩,刘宏邦.THGEM探测器化学抛光及其工作气体优化[J].核电子学与探测技术,2019,39(3). |
| 作者姓名： | 谢文锦 赵子喻 覃潇平 刘熙文 黄雪峰 黄博 封焕波 刘倩 刘宏邦 |
| 作者单位： | 广西大学,南宁,530004;浙江大学,杭州,310027;中国科学院大学,北京,100049 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;广西自然科学基金;广西壮族自治区高等学校高水平创新团队及卓越学者计划 |
| 摘 要： | 采用新的化学抛光方法处理THGEM膜,在不同的气体成分和比例下对THGEM膜的增益和能量分辨进行研究测量。结果表明,以Ar/C_4H_(10)为工作气体的THGEM探测器所需工作电压较低、增益高、能量分辨相对较好。在Ar/C_4H_(10)(95%/5%)的气体条件下,THGEM的增益可达7×10~3。 |
| 关 键 词： | THGEM膜 气体成分 优化 增益 能量分辨 |
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