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| 同步辐射X射线光刻实验研究 | |
| 引用本文： | 谢常青,朱樟震.同步辐射X射线光刻实验研究[J].半导体技术,1997(6):45-46. |
| 作者姓名： | 谢常青 朱樟震 |
| 作者单位： | 中国科学院微电子中心，中国科学院高能所 |
| 摘 要： | 采用侧墙工艺技术研制深亚微米Ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射Ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形。 |
| 关 键 词： | 同步辐射 X射线光刻 X射线掩模 侧墙工艺 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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