| 二元光学元件的制作技术与进展 |
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| 引用本文： | 张羽,杨坤涛,杨长城.二元光学元件的制作技术与进展[J].光学仪器,2005,27(2):80-85. |
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| 作者姓名： | 张羽 杨坤涛 杨长城 |
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| 作者单位： | 1. 华中科技大学光电系,湖北,武汉,430074
2. 华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074 |
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| 摘 要： | 综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述。
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| 关 键 词： | 二元光学 制作工艺 刻蚀 直写法 |
| 文章编号： | 1005-5630(2005)02-0080-06 |
| 修稿时间： | 2004年7月26日 |
Fabrication technology and development of binary optical elements |
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| ZHANG Yu,YANG Kun-tao,YANG Chang-cheng.Fabrication technology and development of binary optical elements[J].Optical Instruments,2005,27(2):80-85. |
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| Authors: | ZHANG Yu~ YANG Kun-tao~ YANG Chang-cheng~ |
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| Affiliation: | ZHANG Yu~1,YANG Kun-tao~1,YANG Chang-cheng~2 |
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| Abstract: | The common fabrication technologies of binary optical elements were expatiated, including etching, thin-film deposition, direct writing, excimer laser projection and gray-scale masks. The merit and defect of these technologies were analyzed, and the development of fabrication technology were summarized. |
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| Keywords: | binary optics fabrication technology etching direct writing |
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