|
|||||
|
|
| 吐温80—H2O2化学发光新体系测定痕量lr（lV） | |
| 引用本文： | 韩鹤友,罗庆尧.吐温80—H2O2化学发光新体系测定痕量lr（lV）[J].贵金属,1994,15(3):41-44. |
| 作者姓名： | 韩鹤友 罗庆尧 |
| 摘 要： | 建立了吐温８０－Ｈ２Ｏ２体系测定痕量铱的新的化学发光分析法，方法的检测限为３．０×１０＾－９ｇ／ｍｌ，线性范围为１．０×１０＾－８～１．０×１０＾－５ｇ／ｍｌ，测定１００ｐｐｂ铱溶液的相对标准偏差为６．５％。 |
| 关 键 词： | 铱 吐温80 化学发光 痕量分析 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |