| 用射频磁控溅射法在二氧化硅衬底上制备磁光Ce∶YIG薄膜 |
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| 引用本文： | 王巍,兰中文,王豪才,高能武,秦跃利,孔祥栋.用射频磁控溅射法在二氧化硅衬底上制备磁光Ce∶YIG薄膜[J].真空科学与技术学报,2003,23(2):116-119. |
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| 作者姓名： | 王巍 兰中文 王豪才 高能武 秦跃利 孔祥栋 |
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| 作者单位： | 1. 电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054
2. 电子部29所,成都,610036 |
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| 摘 要： | 使用射频磁控溅射法在非晶态的二氧化硅衬底上制备Ce1YIG磁光薄膜。生成的Ce1YIG薄膜为非晶态形式 ,经过后续的热处理过程 ,转变为晶化薄膜 ,在用波长为 6 30nm的激光测量时 ,薄膜的饱和法拉弟旋转系数θF 为 80 0°/mm。晶化薄膜具有很强的平行于膜面的磁化强度 ,用VSM测得晶化薄膜的居里温度为 2 2 0℃。实验结果表明 :所制备的薄膜适宜于制备波导型磁光隔离器。同时 ,这一方法为进一步研究非互易平面光波回路打下了基础
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| 关 键 词： | Ce∶YIG石榴石 光隔离器 磁光 磁性能 二氧化硅衬底 |
| 文章编号： | 0253-9748(2003)02-0116-04 |
| 修稿时间： | 2002年9月11日 |
Growth of Magneto-optic Ce-substituted YIG Thin Films on Amorphous Silica Substrated by RF Magnetron Sputtering |
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| Wang Wei,Lan Zhongwen,Wang Haocai,.Growth of Magneto-optic Ce-substituted YIG Thin Films on Amorphous Silica Substrated by RF Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2003,23(2):116-119. |
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| Authors: | Wang Wei Lan Zhongwen Wang Haocai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ce substituted YIG Faraday rotation Magneto optic Magnetic properties Silica substrate |
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