| 硫化和硒化对Cu/Sn/ZnS预置层薄膜结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 孙亚明,薛晓晶,王志群,王嘉欣,华中.硫化和硒化对Cu/Sn/ZnS预置层薄膜结构和性能的影响[J].兵器材料科学与工程,2018,41(5):78-81. |
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| 作者姓名： | 孙亚明 薛晓晶 王志群 王嘉欣 华中 |
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| 作者单位： | 吉林师范大学物理国家级实验教学示范中心,吉林四平,136000;国网内蒙古东部电力有限公司经济技术研究院,内蒙古呼和浩特,010020 |
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| 基金项目： | 吉林师范大学博士科研启动基金 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射法沉积Cu/Sn/ZnS预置层薄膜,经硫化和硒化热处理制备Cu_2ZnSnS_4和Cu_2ZnSnSe_4薄膜,研究两种热处理方式对薄膜的结构、形貌及性能的影响。结果表明:硫化和硒化热处理制备的Cu_2ZnSnS_4和Cu_2ZnSnSe_4薄膜均为单一锌黄锡矿结构;两种薄膜表面及横截面的颗粒致密且均匀,硒化后薄膜的颗粒尺寸和横截面的附着力均优于硫化后的;预置层经硫化及硒化热处理后薄膜的带隙分别为1.58、1.43 e V,硒化后薄膜的带隙明显小于硫化后的。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 硫化 硒化 薄膜 |
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