| 退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响 |
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| 作者姓名： | 潘长锦 张大伟 王健 卢忠荣 |
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| 作者单位： | 上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海,200093 |
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| 基金项目： | 国家重大基础研究计划（973计划）（2015CB352001）;国家自然科学基金（61378060、61205156）;上海市科学仪器重大专项（14142200902） |
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| 摘 要： | 为了获得性能优良的二氧化钛薄膜,采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜,并分别在300、600、900℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能。分别采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄膜,且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大,同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300~1 200nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围。
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| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 退火温度 X射线衍射(XRD) 原子力显微镜(AFM) 透射率 |
| 收稿时间： | 2016-06-20 |
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