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基于TMAH溶液的PN结自停止腐蚀的研究
作者姓名:李俊伍  顾慧  黄见秋  秦明
作者单位:东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096;东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096;东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096;东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096
基金项目:国家863计划资助项目,航空基金资助项目 
摘    要:MEMS器件的性能与尺寸密切相关.介绍了一种精确控制器件尺寸的各向异性腐蚀方法--基于改进TMAH溶液的PN结自停止腐蚀.这种方法几乎不刻蚀铝,从而与CMOS工艺良好地兼容.应用这种办法正面腐蚀,成功释放结构,尺寸与设计比较符合,证明了这种方法的可行性及易操作性.

关 键 词:四甲基氢氧化铵  自停止腐蚀  Al钝化
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