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电沉积Ni-Co纳米镀层热稳定性研究及低温扩散连接应用
引用本文:王国峰,刘永康,陈玉清,张靖轩,王月林.电沉积Ni-Co纳米镀层热稳定性研究及低温扩散连接应用[J].精密成形工程,2022,14(4):115-121.
作者姓名:王国峰  刘永康  陈玉清  张靖轩  王月林
作者单位:哈尔滨工业大学 材料科学与工程学院,哈尔滨 150001;哈尔滨工业大学 金属精密热加工国防重点试验室,哈尔滨 150001,沈阳飞机工业(集团)有限公司,沈阳 110013
基金项目:国家科技重大专项(MJZ-2018-G-59)
摘    要:目的 研究不同Co含量电沉积Ni-Co纳米镀层的热稳定性能及其扩散连接应用效果。方法 在TC4钛合金表面电沉积Ni-Co镀层,改变镀液中Co含量(0、5、20 g/L),利用金相显微镜(OA)和透射电镜(TEM)观察分析镀层800 ℃热处理前后的微观组织。在真空扩散设备中进行TC4钛合金低温扩散连接(800 ℃、1 h),利用万能拉伸机检测扩散连接接头的剪切性能。结果 添加Co元素不仅能够减小镀层晶粒至19.2 nm,还能够提高其热稳定性能。纯镍镀层在800 ℃热处理5 h后晶粒长大至17.2 μm,而Ni-20 g/L Co镀层晶粒在相同条件下仅长大到10.5 μm且生长初期并未发现异常长大晶粒。以2.5 μm厚的Ni-Co镀层为中间层进行TC4钛合金低温扩散连接,接头剪切强度高达543.4 MPa。结论 Co元素的添加降低了晶界能量,提高了Ni-Co镀层的热稳定性能;作为TC4钛合金扩散连接的中间层,提高了原子的扩散系数,实现了TC4钛合金低温扩散连接,对工程应用具有重要意义。

关 键 词:电沉积  Ni-Co纳米镀层  热稳定性  低温扩散连接
收稿时间:2021/12/11 0:00:00

Investigation on Thermal Stability of Electrodeposited Ni-Co Nano-coating and Application in Low Temperature Diffusion Bonding
WANG Guo-feng,LIU Yong-kang,CHEN Yu-qing,ZHANG Jing-xuan,WANG Yue-lin.Investigation on Thermal Stability of Electrodeposited Ni-Co Nano-coating and Application in Low Temperature Diffusion Bonding[J].Journal of Netshape Forming Engineering,2022,14(4):115-121.
Authors:WANG Guo-feng  LIU Yong-kang  CHEN Yu-qing  ZHANG Jing-xuan  WANG Yue-lin
Affiliation:School of Materials Science and Engineering, Harbin 150001, China ;National Key Laboratory for Precision Hot Processing of Metals, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China; Shenyang Aircraft Corporation, Shenyang 110013, China
Abstract:
Keywords:electro-deposition  Ni-Co nano-coating  thermal stability  low-temperature diffusion bonding
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