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碲化钨薄膜的红外近场光学成像
作者姓名:代珍兵  罗国语  贺言  王冲  晏湖根  李志强
作者单位:四川师范大学 物理与电子工程学院,四川 成都 610066;四川大学 物理学院,四川 成都 610065,四川大学 物理学院,四川 成都 610065,四川大学 物理学院,四川 成都 610065,复旦大学 应用表面物理国家重点实验室,上海 200438;复旦大学 物理学系,上海 200438,复旦大学 应用表面物理国家重点实验室,上海 200438;复旦大学 物理学系,上海 200438,四川大学 物理学院,四川 成都 610065
基金项目:国家自然科学基金(11874271)
摘    要:研究了过渡金属硫族化合物碲化钨的近场光学响应,通过Drude-Lorentz模型拟合得到其块材在室温下的介电常数,并利用有限偶极模型计算出碲化钨样品与金刚石基底的近场散射信号比。当样品边缘未出现散射信号增强时,实验结果与理论模型符合较好;当样品边缘出现信号增强现象时,理论模型与实验观测结果不符,说明这部分样品的光学性质并不能完全由块材所描述,从而推测样品表面具有与块材无耦合作用的碲化钨纳米薄层,同时对在样品边缘很强的近场散射信号给出了可能的解释。这个工作为今后对拓扑材料的光学研究提供了参考。

关 键 词:碲化钨薄膜  近场光学成像  介电常数  拓扑
收稿时间:2021-03-04
修稿时间:2022-03-30
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