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| 激光化学气相沉积无定形硅 | |
| 引用本文： | 陈钰清,袁加勇,赵方毅,王颖.激光化学气相沉积无定形硅[J].激光与红外,1987(12). |
| 作者姓名： | 陈钰清 袁加勇 赵方毅 王颖 |
| 作者单位： | 浙江大学光仪系，浙江大学光仪系，浙江大学光仪系，浙江大学光仪系 |
| 摘 要： | 用激光化学气相沉积方法得到了无定形硅薄膜。用干涉仪测得薄膜厚度为微米量级,沉积速率为100(?)/min,用扫描电镜测出无定形硅颗粒平均线度为40～50(?),用激光拉曼光谱仪测出其拉曼频移为480cm~(-1)实验得到了沉积速率随气体峰值温度变化曲线,认为沉积速率受限步骤是硅烷的气相反应,求出反应活化能为192.6kJ/mol。 |
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