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| 石墨层间化合物成阶过程分析 | |
| 引用本文： | 吕超,王煊军,吕晓猛.石墨层间化合物成阶过程分析[J].炭素技术,2013(5):37-40. |
| 作者姓名： | 吕超 王煊军 吕晓猛 |
| 作者单位： | 1.第二炮兵工程大学603教研室; |
| 摘 要： | 主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论。从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制。 |
| 关 键 词： | 石墨层间化合物 成阶 扩散 |
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