超高真空中使用的高纯过滤金属蒸发源 |
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引用本文: | 陆华,厉建龙.超高真空中使用的高纯过滤金属蒸发源[J].真空科学与技术,2000,20(3):210-213. |
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作者姓名: | 陆华 厉建龙 |
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摘 要: | 设计了一种高真空使用的低电渡过渡金属蒸发源,它能产生高纯金属原子束,且具有一;定的寿命。该蒸发源是将过渡金属Co,Ni或Cr电镀到一个由W丝弯成的U形加热器上构成的。装入超高真空中,利用W丝自身的电阻加热,去气后,可获得数小时的清洁蒸发。实验结果表明,在离蒸发源约5cm处,其淀积速率最高可达10nmm/min,总的淀积厚度超过500nm,而且Auger分析结果显示,在超6高真空中淀积的上述几种过渡
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关 键 词: | 过渡金属 蒸发源 超高真空 金属薄膜 真空蒸发 |
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