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非晶硅碳(a-SiC∶H)薄膜光学常数的透射谱表征
作者姓名:胡志华  廖显伯
作者单位:中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心表面物理国家重点实验室,中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心表面物理国家重点实验室 北京100083,云南师范大学太阳能研究所,昆明650092,北京100083
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序.这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系,所有公式均为解析表达式,便于进行数据处理,无须专用软件,使用Excel即可完成,适用于多种半导体薄膜材料.将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳(a-SiC∶H)薄膜,对其光学特性进行了分析.

关 键 词:光学常数  透射谱  非晶硅碳薄膜
文章编号:0253-4177(2005)01-0034-04
修稿时间:2003-12-20
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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