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| 离子束投影曝光技术 | |
| 作者姓名： | 游本章 |
| 作者单位： | 中国科学院电工研究所 |
| 摘 要： | 前言随着科学技术和国民经济的发展,离子束技术已在各个领域获得越来越广泛的应用,离子束曝光就是其中一例。我们知道,在半导体制作技术中,提高电路的集成度是大规模集成电路的一个主要发展趋势,因为随着集成度的提高,可增加器件的可靠性,改善其性能,并能 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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