MPCVD单晶体金刚石的生长实验进展 |
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引用本文: | 王礼胜,肖滢,陈美华,陶隆凤.MPCVD单晶体金刚石的生长实验进展[J].材料导报,2011(2):206-207. |
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作者姓名: | 王礼胜 肖滢 陈美华 陶隆凤 |
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摘 要: | 采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在以往的实验条件上,改用CH4替代C2H5OH作为碳源,合成出单晶金刚石。使用宝石显微镜和环境扫描电子显微镜观察分析了MPCVD单晶金刚石膜的生长表面形貌。初步实验表明,在压力为12kPa,H2流量为300sccm,CH4流量为6sccm的生长环境中,可以合成出质量较好的...
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关 键 词: | MPCVD 单晶金刚石 表面形貌 |
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