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化学镀铜液中铜离子型体分布和络合剂的作用
引用本文:张道礼,龚树萍,周东祥. 化学镀铜液中铜离子型体分布和络合剂的作用[J]. 材料保护, 2000, 33(4): 3-4
作者姓名:张道礼  龚树萍  周东祥
作者单位:华中理工大学电子科学与技术系,武汉,430074
基金项目:国家“863”资助!(合同号715-006-070)
摘    要:
用热力学平衡方法研究了BaTiO3系陶瓷作了PTCR化学沉积金属电极时在酒石酸盐-铜郭子和乙二胺四乙酸钠盐-铜离子体系化学镀铜溶液中各种型体铜离子的分布状况。结果表明,酒石酸盐和乙二胺四乙酸钠盐络合剂会使化学镀铜速度明显下降,其可能的原因是空间的位阻。研究表明,选择合适的络合剂对于化学镀铜的稳定操作十分重要。

关 键 词:化学镀 离子型体分布 镀铜 电镀 镀液 铜离子

Speciation in Electyroless Copper Solutions and Roles of Complexing Agents
ZHANG Dao-li,GONG Shu-ping,ZHOU Dong-xiang. Speciation in Electyroless Copper Solutions and Roles of Complexing Agents[J]. Journal of Materials Protection, 2000, 33(4): 3-4
Authors:ZHANG Dao-li  GONG Shu-ping  ZHOU Dong-xiang
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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