| 酸性减成法图形制作时线宽与铜厚关系研究 |
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| 引用本文： | 姚小山,彭镜辉.酸性减成法图形制作时线宽与铜厚关系研究[J].印制电路信息,2012(Z1):68-84. |
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| 作者姓名： | 姚小山 彭镜辉 |
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| 作者单位： | 东莞生益电子有限公司 |
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| 摘 要： | 主要阐述了随着PCB单板信号传送性能的提升对PCB线宽制作提出更高要求,即内外层图形需要更高精度。本文对内层图形成型过程中酸性蚀刻之蚀刻均匀性对线宽的影响进行定量研究,独创性将蚀刻均匀性同线宽公差进行关联分析并发现了单位量铜厚波动与线宽波动的线性关系及线性系数。以此为理论基础计算出不同铜厚制作时线宽公差的极限能力以及外层减成法来板铜厚极差对应的线宽公差极限,同时指明了提升线宽精度能力的方向-提升蚀刻均匀性。
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| 关 键 词： | 独创性 蚀刻均匀性 线宽精度 线性系数 外层板面铜厚极差 能力提升 |
The research of relationship between line width and copper thickness in acid subtractive method graph manufacturer |
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| YAO Xiao-shan,PENG Jing-hui.The research of relationship between line width and copper thickness in acid subtractive method graph manufacturer[J].Printed Circuit Information,2012(Z1):68-84. |
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| Authors: | YAO Xiao-shan PENG Jing-hui |
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| Affiliation: | YAO Xiao-shan PENG Jing-hui |
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| Abstract: | 主要阐述了随着PCB单板信号传送性能的提升对PCB线宽制作提出更高要求,即内外层图形需要更高精度。本文对内层图形成型过程中酸性蚀刻之蚀刻均匀性对线宽的影响进行定量研究,独创性将蚀刻均匀性同线宽公差进行关联分析并发现了单位量铜厚波动与线宽波动的线性关系及线性系数。以此为理论基础计算出不同铜厚制作时线宽公差的极限能力以及外层减成法来板铜厚极差对应的线宽公差极限,同时指明了提升线宽精度能力的方向-提升蚀刻均匀性。 |
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| Keywords: | Originality Etch Uniformity Line Tolerance Linear Coefficient Outlayer Sufface Copper Range Ability Upgrade |
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