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Si(100)衬底对ZnO纳米线阵列生长方向的控制作用
引用本文:唐斌,邓宏,税正伟,张强,郝昕. Si(100)衬底对ZnO纳米线阵列生长方向的控制作用[J]. 微纳电子技术, 2007, 44(3): 125-128
作者姓名:唐斌  邓宏  税正伟  张强  郝昕
作者单位:1. 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;西南石油大学,理学院,成都,610500
2. 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054
3. 西南石油大学,理学院,成都,610500
基金项目:国家自然科学基金;四川省应用基础研究计划;国家预研基金
摘    要:采用热分解ZnO粉末法,以Au为催化剂,在Si(100)衬底上外延生长了ZnO纳米线阵列。用扫描电子显微镜(SEM)分析表明:ZnO纳米线的直径在100nm左右,长度约3μm,与衬底表面的夹角约为70.5°,纳米线具有四个特定的倾斜方向A,B,C,D。X射线衍射(XRD)图谱上只有ZnO(0002)衍射峰,说明ZnO纳米线沿C轴择优生长。结合Si与ZnO的晶格结构特征,理论研究得出ZnO纳米线与Si基片的晶格匹配关系为:[0001]_(ZnO)∥[114]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[■■4]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[1■4]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[■14]_(Si),失配度为1.54%。得出了Si(100)衬底对ZnO纳米线生长方向具有控制作用的结论。

关 键 词:ZnO纳米线  外延生长  失配度  V-L-S机理
文章编号:1671-4776(2007)03-0125-04
修稿时间:2006-10-11

Study on the Control of Growing Orientation of ZnO Nanowires Array by Si (100) Substrate
TANG Bin,DENG Hong,SHUI Zheng-wei,ZHANG Qiang,HAO Xin. Study on the Control of Growing Orientation of ZnO Nanowires Array by Si (100) Substrate[J]. Micronanoelectronic Technology, 2007, 44(3): 125-128
Authors:TANG Bin  DENG Hong  SHUI Zheng-wei  ZHANG Qiang  HAO Xin
Affiliation:1.National Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrate Devices University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China 2.School of science, Southwest Petroleum University, Chengdu 610500, China
Abstract:Epitaxial ZnO nanowires array were grown on silicon(100)wafer of 10 mm×10 mm with Au catalysis by thermal evaporation ZnO powders technique. The majority of the nanowires grow in one of the four directions(A,B,C,D)all at an angle of 70.5° off substrate plane with nanowires having an average diameter of 100 nm and lengths of about 3 μm. The XRD pattern indicates ZnO nanowires grow along C axis. The growth mechanism can explain as[0001]_(ZnO)∥[114]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[■■4]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[1■4]_(Si),[0001]_(ZnO)∥[■14]_(Si) epitaxy and crystal lattice mismatch is 1.54%. Which indicates Si(100)substrate controls growing orientation of ZnO nanowires array.
Keywords:ZnO nanowires  epitaxial growth  mismatch  vapor-liquid-solid(V-L-S)mechanism
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