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中束流平行扫描式离子注入机的现状
引用本文:何晓阳.中束流平行扫描式离子注入机的现状[J].半导体技术,1997(1):61-64,F003.
作者姓名:何晓阳
作者单位:中国科学院上海冶金研究所微电子学分部
摘    要:全面介绍了当今集成电路制造工业中四种中束流平行扫描式离子注入机的发展情况,由于平行束扫描方式的实现,使得8英寸硅片的注入均匀性小于0.5%。

关 键 词:离子注入机  中束流  平行扫描  半导体器件
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