MOSFET中热载流子效应的计算、实验和模拟 |
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作者姓名: | 郑国祥 罗永坚 杨文清 周思远 蒋蓁 宗祥福 |
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作者单位: | 复旦大学材料科学系,;上海先进半导体制造有限公司, |
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摘 要: | 亚微米 MOSFET的热载流子效应会引起器件的失效 ,文中分析了热载流子效应引起器件失效的机理和物理模型 ,对该效应的内部电场、衬底电流、阈值电压和跨导作了计算 ;使用知名的集成电路器件模拟软件 ATL AS模拟了该效应 ;并对实际 MOSFET作了 I- V特性曲线和跨导变化量随偏压时间变化的实验测试。理论分析、实验结果与模拟结果都符合得很好。为改善MOSFET热载流子效应而提出的 GOL D结构也获得很好的模拟结果。
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关 键 词: | 金属氧化物半导体晶体管 器件失效 器件模拟 热载流子效应 GOLD结构 |
文章编号: | 1000-3819-(2001)02-0182-10 |
修稿时间: | 1999-06-11 |
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