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| 二氧化硅膜的选择性沉积 | |
| 引用本文： | 贾正根.二氧化硅膜的选择性沉积[J].微细加工技术,1989(2):53-55. |
| 作者姓名： | 贾正根 |
| 作者单位： | 南京电子器件研究所 |
| 摘 要： | 本文介绍用二氧化硅膜的选择性沉积法来制造精细图形,可获得0.12μm,间距0.08μm的精细图形。文中具体介绍了制造工艺及沉积原理。 |
| 关 键 词： | 二氧化硅 薄膜 选择性沉积 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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