首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

低插入损耗高隔离度SOI射频开关电路的研究
引用本文:田亮,陈磊,周进,黄爱波,赖宗声.低插入损耗高隔离度SOI射频开关电路的研究[J].微电子学,2009,39(5).
作者姓名:田亮  陈磊  周进  黄爱波  赖宗声
作者单位:1. 华东师范大学,微电子电路与系统研究所,上海,200062
2. 华东师范大学,微电子电路与系统研究所,上海,200062;华东师范大学,纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,上海,200062
基金项目:上海AM基金资助项目,上海市科委项目,纳光电教育工程中心(NPAI)资助项目;上海重点学科建设项目 
摘    要:基于0.18μm RF SOI CMOS工艺,提出了一种可广泛应用于无线通信系统中的低插入损耗高隔离度SOI射频开关电路.该电路利用SOI器件的特殊结构(隐埋氧化层BOX,高阻衬底)和特殊SOI器件(FB,BC,BT等),使电路采用的器件较之体硅CMOS器件具有更优的隔离性能,实现了降低插入损耗和增加隔离度的目的.该电路经过模拟仿真,在频率为2.4 GHz时,插入损耗和隔离度分别为-1 dB和40 dB.

关 键 词:射频开关  低插入损耗  高隔离度

Investigation into Low Insertion-Loss & High Isolation SOI RF Switch
Abstract:
Keywords:SOI  CMOS
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号