| 基体负偏压对膜层形貌与性能的影响 |
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| 引用本文： | 冯光光,刘崇林,卢龙.基体负偏压对膜层形貌与性能的影响[J].热加工工艺,2013,42(14). |
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| 作者姓名： | 冯光光 刘崇林 卢龙 |
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| 作者单位： | 1. 江苏科技大学材料学院,江苏镇江,212003
2. 淮海工学院机械工程学院,江苏连云港,222005 |
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| 基金项目： | 重庆大学机械传动国家重点实验室2009年度开放基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备Ti0.33Al0.67N复合膜层；分析基体负偏压对膜层形貌、厚度、结合力及显微硬度等性能的影响.结果表明,基体负偏压参数设计范围内存在一个最佳值,可获得最优性能的膜层.
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 离子渗氮 制备工艺 |
Effects of Substrate Negative Bias Voltage on Morphology and Properties of Film |
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| FENG Guangguang
,
LIU Chonglin
,
LU Long.Effects of Substrate Negative Bias Voltage on Morphology and Properties of Film[J].Hot Working Technology,2013,42(14). |
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| Authors: | FENG Guangguang LIU Chonglin LU Long |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | multi-arc ion plating ion nitriding preparation technology |
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