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离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结I–V、RD–V特性的研究(下)
引用本文:何 波,徐 静,马忠权,史衍丽,赵 磊,李 凤,孟夏杰,沈 玲.离子束刻蚀HgCdTe环孔pn结I–V、RD–V特性的研究(下)[J].红外,2009,30(2):33-40.
作者姓名:何 波  徐 静  马忠权  史衍丽  赵 磊  李 凤  孟夏杰  沈 玲
作者单位:何 波:上海大学理学院物理系,上海 200444
徐 静:武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北 武汉 430070
马忠权:上海大学理学院物理系,上海 200444
史衍丽:昆明物理研究所,云南 昆明 650223
赵 磊:上海大学理学院物理系,上海 200444
李 凤:上海大学理学院物理系,上海 200444
孟夏杰:上海大学理学院物理系,上海 200444
沈 玲:上海大学理学院物理系,上海 200444
基金项目:上海市教委创新基金(No.08YZ12), 上海大学–索朗光伏材料与器件R&D联合实验室的发展基金2.15cm(No.SS–E0700601)资助
摘    要:本文推导了一种可简便、准确、直观计算和分析pn结I–V特性的公式和方法,并应 用该方法对两类典型HgCdTe环孔pn结的I–V、RD–V特性进行了计算和拟合;得到了表面欧姆(反型沟道)漏 电导、二极管理想因子n随电压的分布等反映二极管结特性的重要参数。计算结果表明,对于长波HgCdTe 光伏器件而言,表面漏电流在整个暗电流中所占的比重相当大,表面漏电流严重地制约着器件性能。HgCdTe 材料的晶体缺陷会使二极管的理想因子n增大,从而使产生–复合电流及陷阱辅助隧穿电流增加。

关 键 词:HgCdTe  环孔pn结  I–V特性  动态电阻  表面漏电流
收稿时间:2008/9/5
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